濕蝕（shí）刻和幹蝕刻有什麽區別

幹蝕刻采用的蝕刻劑是等離子體（tǐ），其工作（zuò）原理是（shì）利用等離子體（tǐ）和表（biǎo）麵薄膜反應（yīng），形成揮發性（xìng）物 質，或者直接轟擊（jī）薄膜（mó）表麵使之（zhī）腐蝕的工藝，它的特（tè）點是，可以實現各項（xiàng）異性刻（kè）蝕，從（cóng）而保證 細心圖形轉移後的保真性，幹蝕刻的設備造價（jià）比較高，應用的領域主要以半導體為（wéi）主。