什麽是金屬蝕刻？

       蝕刻是一種利用化學強酸腐蝕、機械拋光或電化學電解處理物體表麵的技（jì）術。除了增強美感（gǎn）外，它還增加了產品的附加值。蝕刻技術的應用範圍包括蝕刻加工應用領域：電子消費領域、過濾與（yǔ）分離技術、航空（kōng）航天領域（yù）、醫療設備、精密機械、汽車、高端工藝品等。

       那（nà）什麽是金屬蝕刻呢（ne）？金屬蝕刻是一種通過化學反應或（huò）物理衝擊去除（chú）多餘金屬材料的技術。金屬蝕刻技術可分為濕蝕刻和幹蝕刻。 金屬蝕（shí）刻由一係列化學工藝組成。不同的蝕刻劑對不同的（de）金屬材料有不同的腐蝕特性（xìng）和強度。

       金屬蝕刻，又稱光化學蝕刻，是指金屬蝕刻區的保護膜在曝光、製版、顯影、接觸（chù）化學溶液後去除，以達到溶解腐蝕、形成凸點或（huò）挖空。最早用於製造（zào）銅板、鋅板等印（yìn）刷凹凸板，廣泛用於減輕儀表板重量或加工銘牌等薄工件。經過技術和工藝設（shè）備的（de）不斷改進，蝕刻技術已應用（yòng）於航空、機械、化工、半導體製造工藝，加（jiā）工電子薄精密 金屬蝕（shí）刻產品。

蝕刻技術的類型。

       濕蝕刻：

濕（shī）蝕（shí）刻是將晶圓浸泡（pào）在合適的化學溶液中，或將化學溶液噴射到晶圓（yuán）上淬火，通過（guò）溶液與蝕刻物體（tǐ）的化學反應（yīng）去除膜表麵（miàn）的原子，從而達到蝕刻（kè）的目的。濕蝕刻（kè）時，溶（róng）液中的反應物首先通過（guò）停滯邊界層擴散，然後到達（dá）晶片表麵，產生化學反應，產生各種產物。蝕刻化學反應的產物是液相或氣相產物（wù），然後通過邊界（jiè）層擴散並溶解到主溶液中。濕蝕刻不僅垂（chuí）直蝕刻，而且具（jù）有水平蝕刻效果。

       幹（gàn）蝕刻（kè）：

幹蝕刻通常是一種等離子蝕刻或化學蝕刻。由（yóu）於蝕刻效果的（de）不同，等離（lí）子（zǐ）體中離子的物理原子、活性自由基的化學（xué）反應以及裝（zhuāng）置（晶圓）的表麵原子，或兩者的組合，包括以下內容：

1）物理（lǐ）蝕刻：濺射蝕刻、離子束蝕（shí）刻

2）化學蝕刻（kè）：等離子（zǐ）蝕刻

3）物理化學複合蝕刻：反（fǎn）應離子（zǐ）蝕刻

       幹蝕刻是一（yī）種各向異性蝕刻，具有良好的方向性，但選擇性比濕蝕刻差。在等離子體蝕（shí）刻中，等（děng）離子體是（shì）一種（zhǒng）部分離解的氣體，氣體分子被離解（jiě）成電子、離（lí）子和其他具有（yǒu）高（gāo）化學活（huó）性的物質。幹蝕刻最大的優點是“各向異性蝕刻”。然（rán）而，（自由基）幹蝕刻（kè）的（de）選擇（zé）性低於（yú）濕蝕刻。這是因為幹蝕刻的蝕刻機理是物理（lǐ）相互作用（yòng）；因此，離子（zǐ）的衝擊不僅（jǐn）可以去（qù）除蝕刻膜，還可以去除光刻膠掩模。